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氣體純化設(shè)備市場

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發(fā)布時間：2010年03月15日

有效期：2010年03月15日

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產(chǎn)品規(guī)格：氣體純化設(shè)備

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詳細(xì)說明

氣體純化設(shè)備用于對各種工業(yè)氣體的進(jìn)一步提純。采用專利氣體凈化催化劑，凈化純度高，性能可靠；采用潔凈閥門、管道、全自動氬弧焊，全面保證氣體質(zhì)量；全自動運(yùn)行，采用PLC自控系統(tǒng)及觸摸屏人機(jī)界面、操作簡便；適用范圍廣,根據(jù)原料氣設(shè)計工藝流程，滿足復(fù)雜工況要求。應(yīng)用范圍：電子工業(yè)保護(hù)氣；冶金、冷軋板保護(hù)氣；，石油化工生產(chǎn)用保護(hù)氣；標(biāo)準(zhǔn)氣體、高純氣體生產(chǎn)等行業(yè)。產(chǎn)品列表一　氫氣凈化設(shè)備性能指標(biāo) O2 ≤0.1 ppm N2 ≤0.1 ppm CO ≤0.1 ppm H2O ≤0.1 ppm CO2 ≤0.1 ppm CH4 ≤0.1 ppm 工作壓力 0.5 ～ 3.0Mpa 單臺處理量 5-10000Nm3 /h 產(chǎn)品列表二　氮?dú)鈨艋O(shè)備性能指標(biāo) O2 ≤ 0.1ppm CO2 ≤ 0.1ppm CH4 ≤ 0.1ppm H2O ≤ 0.1 ppm （ -101 ℃ ） CO ≤ 0.1 ppm H2 ≤ 0.1 ppm 工作壓力 0.5 ～ 3.0Mpa 單臺處理量 5~10000Nm 3 /h 產(chǎn)品列表三　氧氣凈化設(shè)備性能指標(biāo) CO ≤ 0.1 ppm CO2 ≤ 0.1 ppm H2 ≤ 0.1 ppm CH4 ≤ 0.1 ppm H2O ≤ 0.1 ppm 工作壓力 0.5 ～ 2.0Mpa 單臺處理量 5~10000Nm 3 /h

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